联发科武汉研发中心




PROJECT INFORMATION

项目详情




项目位于武汉光谷金融港,为联发科技MediaTek进行软件系统设计的研发基地。基地只向南面临道路,内部却存在约5米的高差和不规则的用地轮廓。因此,如何因地制宜地设计建筑,以满足用户对规整、易于弹性调整使用空间大小的要求,成为了项目设计的关键所在。为了划分出研发主楼和附属停车楼的范围,我们在用地轮廓内嵌入两个方形区域。汽车坡道顺应地势高差,与邻近道路的开口相邻,不仅缩短了车辆地面行驶路径,还将车流和人流分离开来。研发主楼采围合式回形平面,交通核心及辅助空间则集中于东西两侧。这样研发空间既可完整联通,也能轻松地调整大小。此外,我们在建筑中央创造了一个露天中庭以提供额外的自然采光面,同时也形成了内外双重景观视野。中庭内串联的通道、平台和户外楼梯营造出节奏分明的动线,并创造出通透明亮的室内外互动休憩空间。


我们将这个绿意盎然的中庭比喻成建筑物的芯片,它能为周围的研发空间带来源源不断的交流和创意,为整个建筑注入了无限的活力。建筑外立面依不同朝向采取不同的遮阳设计,南向主要采用横向遮阳板,东西向则增加纵向遮阳板的比例。横纵交错的遮阳构件如芯片的外围电路环绕建筑外表面,形成了与该公司芯片产品特征相呼应的具有可识别性的建筑立面语汇。为了让人们在这个高效规整的空间中体验到自然轻松的室外环境,我们采用了和建筑形式相对应的流动线条的景观策略。通过地面高低起伏的土坡塑造和下凹绿地等透水系统措施结合,并搭配不同色彩、四季分明的植栽使得园区形成完整生态系统。设计以人的感受为出发点,不仅考虑了场地的地形特点,还通过建筑的遮阳措施、景观绿意的营造,使园区在高效规整的高科技办公空间中,仍能体验到自然惬意的氛围,为产业、环境以及社会创造三赢的科技新时代。


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图


武汉联发科研发中心外部实景图



PROJECT DRAWINGS

项目图纸




武汉联发科研发中心平面图


武汉联发科研发中心平面图


武汉联发科研发中心平面图


武汉联发科研发中心平面图


武汉联发科研发中心平面图


武汉联发科研发中心平面图


武汉联发科研发中心平面图


武汉联发科研发中心平面图


武汉联发科研发中心剖面图


武汉联发科研发中心立面图


武汉联发科研发中心立面图




PROJECT FILES

项目档案

项目名称:联发科武汉研发中心

项目类型:研发办公

项目地点:湖北省,武汉市

业主单位:联发科技MediaTek

设计单位:上海潘冀建筑设计事务所有限公司

设计范围:建筑设计

建设时间:2022年




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业主单位:联发科技MediaTek

设计单位:上海潘冀建筑设计事务所有限公司

建成时间:2022

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